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Resolution improvements on poly(methyl methacrylate) as electron-beam resist
(San José, Costa Rica, 2012-10-23)
The present thesis expands the topic of lithographic resolution improvement of poly(methyl methacrylate) (PMMA) as a positive tone electron-beam resist. The investigation used electron-beam lithography (EBL) to define ...
Aplicación del análisis de ruido flicker para la optimización estructural del silicio poroso como material básico en la producción de nuevos sensores y diodos emisores de luz
(2005)
En esta tesis se presentan los resultados de la aplicación de la técnica denominada espectroscopía de ruido Flicker para el análisis del proceso de producción del silicio poroso, un material que exhibe interesantes propiedades ...