Evaluación del funcionamiento de un reactor de deposición química de vapor asistido por plasma mediante la síntesis de nanotubos de carbono de capa simple
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Authors
Rodríguez Fonseca, María Gabriela
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Keywords
CARBONO, DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR, DISPOSITIVOS DE PLASMA - EVALUACION, ESPECTROSCOPIA DE RAMAN, MICROSCOPIA ELECTRONICA, MICROSCOPIA ELECTRONICA DE TRANSMISION, MICROSCOPIOS ELECTRONICOS DE BARRIDO, NANOTUBOS, PLASMA (GASES IONIZADOS), REACTORES QUIMICOS - EVALUACION
Citation
https://repositorio.sibdi.ucr.ac.cr/handle/123456789/10941