Crecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presión

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dc.creatorVarela Fonseca, Stephanie
dc.creatorHernández Murillo, Camila
dc.creatorMontero Zeledón, Ernesto
dc.creatorGutiérrez Fallas, Dionisio
dc.creatorUrcuyo Solórzano, Roberto
dc.creatorPuente Urbina, Allen
dc.date.accessioned2024-02-13T20:47:46Z
dc.date.available2024-02-13T20:47:46Z
dc.date.issued2022
dc.description.abstractLos alótropos de carbono han ganado interés en las últimas décadas debido a sus propiedades y a la gran variedad de posibles aplicaciones tecnológicas que han demostrado. Por dichas razones, la obtención de estos alótropos con diferentes propiedades y coberturas es ampliamente investigado. La Deposición Química en Fase de Vapor (CVD, por sus siglas en inglés) es una de las técnicas más utilizadas para obtener este tipo de materiales con una alta calidad y cobertura en una forma controlada. En CVD, se utilizan metales de transición como catalizadores, fuentes de carbono gaseosas y altas temperaturas. En este reporte, se presentan estructuras de carbono sintetizadas sobre sustratos de cobre utilizando Deposición Química en Fase de Vapor a Baja Presión (LPCVD, por sus siglas en inglés) con acetileno como fuente de carbono. Los sustratos de cobre se trataron térmicamente bajo una atmósfera reductora de hidrógeno-argón y luego se expusieron a acetileno, variando el flujo de acetileno y el tiempo de deposición. Los materiales resultantes se caracterizaron mediante microscopía óptica y espectroscopía Raman. El enfoque seguido permitió determinar las mejores condiciones de síntesis de grafeno monocapa, de crecimiento irregular.es_ES
dc.description.abstractCarbon allotropes have gained interest in recent decades due to their properties and the wide variety of possible technological applications they have demonstrated. For such reasons, obtaining these allotropes with different properties and coverage is extensively investigated. Chemical Vapor Deposition (CVD) is one of the most widely used techniques to obtain this type of materials with high quality and coverage in a controlled manner. In CVD, there are used transition metals as catalysts, gaseous carbon sources, and high temperatures. In this report, carbon-on-copper structures were synthesized using Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) with acetylene as a carbon source. The copper substrates were heat-treated under a reducing hydrogen-argon atmosphere and then exposed to acetylene, varying the acetylene flow and the deposition time. The resulting materials were characterized by optical microscopy and Raman spectroscopy. The approach followed allowed to determine the best conditions for the synthesis of monolayer graphene with irregular growth.es_ES
dc.description.procedenceUCR::Vicerrectoría de Docencia::Ciencias Básicas::Facultad de Ciencias::Escuela de Químicaes_ES
dc.description.procedenceUCR::Vicerrectoría de Investigación::Unidades de Investigación::Ciencias Básicas::Centro de Investigación en Ciencia e Ingeniería de Materiales (CICIMA)es_ES
dc.description.procedenceUCR::Vicerrectoría de Investigación::Unidades de Investigación::Ciencias Básicas::Centro de Investigación en Electroquímica y Energía Química (CELEQ)es_ES
dc.identifier.citationhttps://revistas.tec.ac.cr/index.php/tec_marcha/article/view/6067es_ES
dc.identifier.doi10.18845/tm.v36i1.6067
dc.identifier.issn2215-3241
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10669/90936
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsacceso abierto
dc.sourceTecnología en Marcha, vol.35 (4), pp.57-70es_ES
dc.subjectCARBONOes_ES
dc.subjectQUÍMICAes_ES
dc.subjectESTRUCTURASes_ES
dc.subjectGRAFENOes_ES
dc.titleCrecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presiónes_ES
dc.title.alternativeGrowth of carbon structures through low-pressure chemical vapor depositiones_ES
dc.typeartículo originales_ES

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