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Aplicación del análisis de ruido flicker para la optimización estructural del silicio poroso como material básico en la producción de nuevos sensores y diodos emisores de luz

dc.contributor.advisorAraya Pochet, José Alberto
dc.creatorRamírez Porras, Arturo
dc.date.accessioned2013-09-30T20:53:48Z
dc.date.accessioned2021-09-06T23:13:37Z
dc.date.accessioned2024-08-26T01:28:14Z
dc.date.available2013-09-30T20:53:48Z
dc.date.available2021-09-06T23:13:37Z
dc.date.available2024-08-26T01:28:14Z
dc.date.created2013-09-30T20:53:48Z
dc.date.created2021-09-06T23:13:37Z
dc.date.issued2005
dc.description.procedenceUCR::Investigación::Sistema de Estudios de Posgrado::Ingeniería::Maestría Académica en Ingeniería Eléctrica con énfasis en Sistemas Digitales
dc.identifier.citationhttps://repositorio.sibdi.ucr.ac.cr/handle/123456789/1091
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10669/99066
dc.languagees
dc.rightsacceso abierto
dc.subjectOPTOELECTRONICA - INVESTIGACIONES
dc.subjectSILICIO - PROPIEDADES ELECTRICAS
dc.subjectDIODOS EMISORES DE LUZ
dc.subjectDISPOSITIVOS ELECTROOPTICOS
dc.titleAplicación del análisis de ruido flicker para la optimización estructural del silicio poroso como material básico en la producción de nuevos sensores y diodos emisores de luz
dc.typetesis de maestría

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